(獨媒報導)雖然內地有頂級技師可以磨研「5奈米」的粗糙度,不過在生產晶片技術的關鍵光刻工具,仍要靠外國入口。立法會財委會今午討論斥資28.3億元設立「香港微電子研發院」,主攻研發第三代半導體,「中試線」設備包括光刻工具。實政圓桌田北辰關注美國大選會否影響光刻機出口,創科局長孫東表示第三代半導體的「I線光刻工具」不在外國禁運名單,多次強調撥款「時間要快!」結果僅討論84分鐘,財委會就以不記名方式,舉手通過撥款。
全球半導體超過九成市場是第一代和第二代半導體,在中美「新冷戰」格局下,中國尋求在第三代半導體技術取得突破,當中化合物半導體碳化矽(SiC)和氮化鎵(GaN)可應用於光達、車用二極體、5G、衛星通訊功率放大器、摩打控制器、風力發電等電力控制系統。